Infrared absorption in Li-intercalated tungsten oxide

Abstract

Thin films of amorphous and polycrystalline tungsten oxide, were produced by reactive dc magnetron sputtering and nanocrystalline films were deposited by advanced gas evaporation. The films were submitted to electrochemical intercalation of Li ions before infrared reflectance measurements were carried out. For crystalline films the reflectance in the wavelength region 10-30 µm increases upon intercalation, indicating an increasing free electron contribution. On the other hand, all the films display an increased absorption at wavelengths less than 10 µm when intercalated. The thermal emittance could be varied from about 0.5 to 0.7-0.75 by intercalation in films with thicknesses in excess of 1 µm. Both absorption and interference contribute to the emittance contrast.

Películas delgadas amorfas y policristalinas de óxido de tungsteno fueron obtenidos por "sputtering" dc reactivo y películas nanocristalinas por evaporación avanzada. Los recubrimientos fueron sometidos a la intercalación de iones de Li antes de medir la reflectancia infrarroja. Para recubrimientos cristalinos la reflectancia en la región de 10-30 µm se incrementa después de la intercalación, indicando un incremento de la contribución de los electrones libres. Por otro lado, todos los recubrimientos muestran un incremento de la absorción para longitudes de onda menores que 10 µm cuando son intercaladas. La emitancia térmica puede variarse desde 0.5 hasta 0.7-0.75 por intercalación en recubrimientos con espesores mayores que 1 µm. La absorción e interferencia contribuyen al contraste de la emitancia.